一、产品概述

　　超纯水是目前水质纯度最高的水，电阻率可以达到18MΩ*cm以上，一般用于集成电路、半导体原材料清洗、光刻掩模版制备和光电产业等。采用“EDI+抛光”两大设备联用，制备超纯水，出水水质纯度极高。

　　在前处理阶段， “EDI+抛光”工艺与传统超纯水处理工艺基本相同。原水经过严格的预处理之后，进入反渗透系统，出水立刻送至EDI装置中，此时出水已经达到一般工业用超纯水要求，进而再经过抛光对出水进行更深层次的处理，保证出水无任何杂质。

二、性能优点

　　1、超纯水设备采用全自动微电脑控制，出水可以完全满足尖端科技的苛刻要求，水质检测结果，杂质含量为零。

　　2、EDI+抛光”超纯水设备的应用前景广阔，也是未来超纯水设备的发展趋势。

三、案例图片